光刻机唯一上市公司

掩膜版光刻机唯一上市公司是张江高科公司，掩膜版光刻机又称掩膜版对准曝光机、曝光系统、光刻系统，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。

光刻机品牌众多，根据技术路线不同可分为以下几类:

1，高端投影光刻机分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在七纳米到几微米之间。高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上有65438+2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学产业之花，其制造难度之大，全球只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要是荷兰的阿斯麦(镜头来自德国)、日本的尼康(高端光刻机，英特尔曾经从它手里买过尼康)和日本的佳能。

2.位于中国上海的SMEE公司开发了具有自主知识产权的投影式中档光刻机，形成了产品系列，初步实现了国内外销售。R&D和其他系列产品的生产正在进行中。

3.用于生产线和R&D的低端光刻机是接近式和接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。主要有德国sus，美国MYCRO NXQ4006，中国品牌。

光刻机的主要性能指标有:支持衬底的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1，分辨率是对光刻所能达到的最细线精度的描述。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系统、光刻胶和工艺的限制。

2.对准精度是指多层曝光时层间图案的定位精度。

3.曝光方式分为接触接近、投影和直写。

4.曝光光源的波长分为紫外、深紫外和极紫外区，光源包括汞灯和准分子激光器。