三星V5晶圆是多少纳米

可用于5纳米和7纳米

三星通过官网新闻中心宣布实现基于EUV光刻的5纳米FinFET工艺，并已准备好投入生产。据悉，这一成果由三星在韩国华城的S3晶圆厂及其供应链合作伙伴贡献。

与7纳米相比，三星的5纳米FinFET工艺使特定面积的晶体管数量增加了25?性能提升10?功耗降低20此外，它是三星重复利用7纳米相关知识产权的成果，因此大幅减少了时间成本和落地成本。