尼康光刻机已经做到多少nm了？

尼康的掩膜版光刻机支持14nm工艺。光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。光刻机品牌众多，根据技术路线的不同可以分为以下几类:高端投影光刻机分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在七纳米到几微米之间。高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，世界上有价格1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学产业之花，其制造难度之大，全球只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要是荷兰的阿斯麦(镜头来自德国)、日本的尼康(高端光刻机，英特尔曾经从它手里买过尼康)和日本的佳能。位于中国上海的SMEE公司开发了具有自主知识产权的投影式中档光刻机，形成了产品系列，初步实现了国内外销售。R&D和其他系列产品的生产正在进行中。用于生产线和R&D的低端光刻机是接近式和接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。主要有德国sus，美国MYCRONXQ4006，中国品牌。