简述了提高集成电路布设计保护的措施。

1.确定集成电路的布图设计、保护政策导向和法律规制。

2.加大对侵权假冒行为的惩处力度，加强民事司法保护，引入侵权惩罚性赔偿制度，大幅提高侵权法定赔偿上限。

3.严格规范证据标准，规范司法、行政执法、仲裁、调解等不同渠道的证据标准。推动行政执法和刑事司法立案标准协调衔接，制定证据指南。

(2)构建集成电路布图设计大保护工作格局。

1.建立和完善社会治理模式的大保护工作格局。培育、发展和完善集成电路布图设计仲裁、调解和公证机制。鼓励集成电路行业协会建立集成电路布图设计保护自律和信息沟通机制。

2.加强专业技术支持，将技术调查员制度引入司法救济和行政救济。

(3)突破集成电路布图设计专有权保护的关键环节。

1.优化授权、确认和维权的衔接程序。加强集成电路布图设计审查能力建设，缩短审查周期，提高审查质量，加强源头保护。

2.促进集成电路布图设计中简单案件和纠纷的快速处理。

3.加强集成电路布图设计专有权快速保护制度建设。在知识产权保护中心建立集成电路布图设计专有权案件快速受理和科学分流机制，提供快速审查、快速确认、快速维权的纠纷解决方案。加快关键技术领域集成电路布图设计专有权授权、确认和抗辩的审查进程。

(4)为保护集成电路布图设计创造优越的环境。

1.促进国际合作，享受各国集成电路布图设计审查成果。

2.加强海外维权援助服务。完善境外集成电路布图设计专有权纠纷预警防范机制，加强大案要案跟踪研究，及时发布风险预警报告。开展境外集成电路布图设计等全球应对指导，构建境外争端协调解决机制，建立境外维权专家咨询机制。