R&D成果的知识产权形式
表现形式有:商标权、著作权、专利权、商业秘密。
1.商标权:在中国,获得商标权的基本途径是商标注册。商标注册后,取得商标专用权。取得商标专用权,是指注册商标所有人可以合法排除他人在同一种或者类似商品(或者服务)上以混淆消费者的方式使用相同或者近似的商标。
2.著作权:在中国,著作权就是版权,指文学、艺术、科学领域对原创作品的法律保护。未经作者同意,他人不得复制或使用。
3.专利权:专利权是政府根据发明人或者设计人的申请,在发明或者设计内容向公众公开的前提下,依照法定程序,授予专利申请人在特定的、有限的期限内享有的专有权利。
4.商业秘密:商业秘密是指商业秘密信息,包括产品配方、工艺、装置、技术秘密、计算机源代码、处方或客户名单、供货清单等。