半导体fab金属离子浓度
几十毫克/升左右。
半导体生产废水中含有多种金属离子,主要包括铜、镍、锡、铅、银等。,一般浓度在几十毫克/升左右。
半导体知识产权一般指FABIP,即Fab+intellectualproperty源于Fab,是集成电路制造产业链的源头。Fab专注于晶圆制造,Fabless专注于芯片设计,这是分工。
半导体生产废水中含有多种金属离子,主要包括铜、镍、锡、铅、银等。,一般浓度在几十毫克/升左右。
半导体知识产权一般指FABIP,即Fab+intellectualproperty源于Fab,是集成电路制造产业链的源头。Fab专注于晶圆制造,Fabless专注于芯片设计,这是分工。