什么是光刻机？

光刻机是一种通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上的设备，类似于照相印刷技术。

光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统，是制造芯片的核心设备。光刻机根据操作的简单程度一般分为三种类型:手动、半自动和全自动:

1，手动:指对准的调整方式，即通过手动调整旋钮改变其X轴、Y轴和thita角度来完成对准，对准精度不高。

2.半自动:是指可以根据CCD由电轴进行定位和调准。

3.自动:指从基板上传和下载。曝光持续时间和周期由程序控制。自动光刻机主要满足工厂对加工能力的需求。

根据采用的技术路线不同，光刻机品牌可分为以下几类:

高端投影光刻机分为步进投影和扫描投影光刻机两种。分辨率通常在7纳米到几微米之间。高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，高端光刻机是现代光学工业的花朵。制造难度大，世界上只有少数公司能制造。

国外品牌主要是荷兰的阿斯麦(镜头来自德国)、日本的尼康(高端光刻机，英特尔曾经从它手里买过尼康)和日本的佳能。位于中国上海的SMEE公司开发了具有自主知识产权的投影式中档光刻机，形成了产品系列，初步实现了国内外销售。

R&D和其他系列产品的生产正在进行中。用于生产线和R&D的低端光刻机是接近式和接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。主要有德国sus，美国MYCRO NXQ4006，中国品牌。