集成电路布图设计保护条例
(1)集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为衬底，将至少两个元件与至少一个有源元件和衬底中或衬底上的部分或全部互连线集成在一起，以执行某种电子功能的中间产品或最终产品；
(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少两个部件和部分或者全部互连线的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；
(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织。
(四)复制，是指重复制作布图设计或者包含该布图设计的集成电路的行为；
(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。第三条中国境内的自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国投入商业使用的，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计，其所属国与中国签订了布图设计保护协议或者参加了保护布图设计的国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。第四条受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者的智力劳动成果，并且在创作时布图设计创作者和集成电路制造者未将其视为常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，整体上应当符合前款规定的条件。第五条本条例对布图设计的保护不延及思想、处理程序、操作方法或者数学概念。第六条国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的管理。第二章布图设计专有权第七条布图设计权利人享有下列专有权:
(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中具有独创性的部分；
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业使用。第八条布图设计专有权由国务院知识产权行政部门登记。
未经登记的布图设计不受本条例保护。第九条布图设计的专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持，根据法人或者其他组织的意愿创作，并由法人或者其他组织负责的布图设计，是创作者。
由作为创作者的自然人创作的布图设计。第十条两个以上的自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；没有约定或者约定不明确的，由合伙人享有专有权。第十一条委托创作的布图设计专有权的归属由委托方和被委托方约定。没有约定或者约定不明确的，由受托人享有专有权。第十二条布图设计专有权的保护期为65，438+00年，自布图设计申请登记之日或者在世界任何地方首次商业使用之日起计算，以较早者为准。但是，无论其是否登记或者投入商业使用，布图设计自创作之日起15年后，不再受本条例保护。第十三条布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权依照继承法的规定在本条例规定的保护期内转移。
布图设计专有权属于法人或者其他组织的，该法人或者其他组织变更或者终止后，其专有权在本条例规定的保护期内，由承受其权利和义务的法人或者其他组织享有；没有法人或者其他组织继承其权利和义务的，布图设计进入公共领域。第三章布图设计登记第十四条国务院知识产权行政部门负责布图设计登记，受理布图设计登记申请。第十五条申请登记的布图设计涉及国家安全或者重大利益需要保密的，按照国家有关规定办理。第十六条申请布图设计登记，申请人应当提交:
(一)布图设计登记申请表；
(二)布图设计的副本或者图样；
(三)布图设计已经投入商业使用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；
(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。第十七条布图设计自其在世界任何地方首次商业使用之日起两年内未向国务院知识产权行政部门申请登记的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。