掩膜版光刻机的自主研发对中国意味着什么？
目前，mask aligner在全球的R&D由荷兰、美国、日本掌握，根本不会对外开放，也不会对外公布，导致国内在这方面受到严重限制。尤其是2020年，由于全球疫情，每个国家都不同程度的出现芯片短缺。特别是国内对芯片的需求一直很高，国外利用中国技术短板在中国市场获利颇丰。
外国公司垄断技术的同时，也在打压中国高科技公司的成长，导致很多公司因为没有核心技术而濒临倒闭。因此，为了改变技术格局，打破国外的技术封锁，国家将在光刻机方面启动自主研发项目。
据专家推测，中国在光刻机方面的技术与世界顶尖水平还有20年的差距。可以说差距还是比较大的，但是国家已经开始了相关的研究工作，相信在所有人的努力下，技术封锁总有一天会被打破。
开发光刻机的难点是什么？
第一:思想难度。
中国有这种思维方式的人不少。还不如自己花钱研究，买不到就花钱租。最好的产品可以用最低的成本生产出来。这种想法虽然没有错，但是利润却大打折扣，很多时候他们没有控制权，没有决定权。所以，光刻机的研发不仅仅是一个技术问题，更是一个人的思想问题。
第二:技术难度。
光刻机的技术一直是垄断行业，掌握在发达国家手里。中国想研究光刻机，但是没有任何资源只能靠自己的能力。但是技术上的差距太多了，必然会有很多问题，所以R&D过程中的技术问题就成了很多人要解决的关键。
第三:环境难度。
没有一个国家能够独立完成光刻机中的R&D，每个国家只负责光刻机中的部分生产和研究工作。因此，中国自主研发光刻机技术不仅是技术和思想上的困难，也是国际环境下需要克服的困难。因为没有国家愿意提供帮助，也没有国家能够独立完成从R&D到生产光刻机的过程，中国不得不面临比其他国家更多的困难。
一旦光刻机技术研发成功，不仅可以解决我国自主芯片的制造问题，还可以将我国的高技术提前20年。无论是高端高分子材料还是高端化学都可以全面进步，这也是为什么国家要花重金研发光刻机的原因。