集成电路布局加权的特性

集成电路布图设计专有权不同于著作权、专利或商标，但其保护制度具有部分著作权保护和部分工业产权特别是专利保护的特点。这一点从下面的图表中可以看得很清楚:著作权(2001)布图设计(2001)发明专利(2000)的保护条件是独创性；非公认的常规新颖性、创造性和实用性申请注册系统无需注册，必须生成自动注册。申请保护权、修改权和保护作品完整权没有时间限制；公民的作品发表权和财产权是终身加死后50年。10年，自注册申请或首次商业使用之日起，以前者为准；经过15年的创作，不受法规保护。20年，自立案之日起，算算什么是侵权:未经授权出版、复制、发行、通过信息网络传播等。(第四十六条和第四十七条)；未经许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、集成电路和物品(第三十条)专利实施，即制造、使用、许诺销售、销售、进口等。出于生产和商业目的(第57-59条)，不允许逆向工程(第23条第1款第2项)。无过错原则不能证明其发行或者出租的复制品有合法来源的，应当承担法律责任。如果它不知道，它就不负责。如果告知了，可以继续使用，但没有意识到要支付合理的使用费。但限制合理使用不承担赔偿责任的权利、未经许可合理使用、不许可不支付用尽原则等四种可以证明法律来源的情形，不视为侵犯专利权。没有规定强制许可(第25条)有(第48-50条)。从上图可以看出，布图设计专有权比著作权更具有产业性，这是一般著作权作品所不具备的。同时其独创性是一般专利产品所不具备的，允许逆向工程，有自己的特色。从保护期限来看，只有10年，创作完成15年后就不再保护，符合其技术更新快。特别是，条例允许“平行进口”。

根据《条例》第24条，“受保护的布图设计……由布图设计权利人或者经其许可投放市场的，他人可以不经布图设计权利人许可，在商业上重复使用，并且不向其支付报酬。”根据《条例》第2条，商业利用是指“为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计的行为”。所以根据规定，只要布图设计合法投放市场，全世界的权利都用尽了，不需要重新许可就可以进口销售。