掩模对准器是芯片制造的关键。现在国内有哪些企业可以开发光刻机？
光刻机是芯片制造中的核心设备之一，根据用途可以分为几种类型:有用于生产芯片的光刻机；包装用掩模对准器；还有一种用于LED制造领域的投影掩模对准器。用于生产芯片的光刻机是中国半导体设备制造最大的短板。国内晶圆厂需要的高端光刻机完全依赖进口。光刻机被业界视为集成电路行业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛都很高。也正因为如此，能生产高端光刻机的厂家寥寥无几。到目前最先进的14nm光刻机，只剩下阿斯麦，日本佳能和尼康已经基本放弃了第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内的光刻机厂商就很寒酸了。
上海微电子设备(集团)有限公司的光刻机主要应用于集成电路前电路、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域。2018年出货50-60台左右。营业收入没有公布，政府补贴很多。技术上处于领先地位的上海微电子设备有限公司量产性能最好的光刻机是90nm光刻机，所以制造工艺差距很大，国内晶圆厂需要的高端光刻机完全依赖进口。
2016 110 15，长春光机所牵头承担了国家科技重大专项极紫外光刻关键技术研究。该项目顺利完成了验收前的现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学的共同努力下，经过8年的努力，我们圆满完成了预定的研究内容和重点任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术， 并初步建立了适合极紫外光刻中曝光光学系统开发的加工、测试、镀膜和系统集成平台。
合肥新硕半导体有限公司成立于2006年4月，是中国第一家半导体直写光刻设备制造商。公司自主研发的ATD4000实现了高达200nm的量产。
无锡苏樱成立于2015年6月，苏樱公司是由中国科学院微电子研究所、行业资深技术团队和产业基金共同发起成立的专业从事微电子设备的高新技术企业。膜速公司成功研发了半导体领域使用的激光直写/制版光刻设备和国际首台双台高速激光直接成像连接设备(LDI)，并实现了200nm的最大量产。无锡苏樱成立于2015年6月，苏樱公司是由中国科学院微电子研究所、行业资深技术团队和产业基金共同发起成立的专业从事微电子设备的高新技术企业。膜速公司成功研发了半导体领域使用的激光直写/制版光刻设备和国际首台双台高速激光直接成像连接设备(LDI)，并实现了200nm的最大量产。
先腾光电成立于2013年4月，目前已实现最大200nm量产。在2014国际半导体设备及材料展览会上，先腾光电展示了其拥有完全自主知识产权的LED光刻机生产技术，震惊了四人。