掩模对准器是什么意思？

光刻机又称:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的掩模光刻机是掩模对准光刻，所以称为掩模对准系统。

光刻就是用光制作图案(工艺)；

在硅片表面涂胶，然后将掩膜版上的图案转移到光刻胶上，将器件或电路结构暂时“复制”到硅片上的工艺。

扩展数据:

平版印刷术简介:

一般的光刻工艺都要经过硅片表面清洗干燥、打底、旋涂光刻胶、软烤、对准曝光、后烤、显影、硬烤、刻蚀、检测等过程。

在传统光学光刻技术接近工艺极限的情况下，电子束光刻技术将有可能出现在以193i为代表的与当前光学曝光技术和EUV技术相匹配的混合光刻中，并在实现10nm光刻中发挥重要作用。

值得一提的是，电子束曝光技术是推动微电子和微加工技术进一步发展的关键技术，在微电子、微光学、微机械等微系统微加工领域具有广阔的应用前景。除了电子束直写光刻技术本身，新一代光刻技术所需的掩膜版几乎都离不开电子束曝光技术。

百度百科-光刻

百度百科-面膜对准器