拓晶科技什么时候上市？
拓景科技股份有限公司(以下简称“拓景公司”或“本公司”)成立于2010年4月，2021，12年6月变更为股份有限公司。公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区，在北京、上海、海宁设立了三家子公司。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司专注的半导体薄膜沉积设备与光刻机和蚀刻机一起构成了芯片制造的三大主要设备。公司多次承担国家重大科技项目，被中国半导体行业协会评为2016、2017、2019年度“中国半导体装备五强企业”。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和低于大气压的化学气相沉积(SACVD)设备。技术指标达到了世界同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、微型LED、有机发光二极管显示等高端技术领域。目前，公司开发的PECVD、ALD、SACVD设备系列产品已累计出货超过150台，客户总数超过15万。公司产品获得中国集成电路创新联盟两项IC技术创新奖和辽宁省科技进步一等奖。
公司拥有十余名海外高层次专家，结合国内优秀人才，形成了一支具有高科技R&D实力和管理经验的国际化专业团队。截至2021年6月30日，公司员工总数超过350人(含子公司)。通过多年的技术积累，公司形成了自主知识产权体系。截至2021年6月30日，累计授权专利数超过160件，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部占地80亩，总建筑面积40000平方米。拥有现代化的办公楼和高档洁净车间，先进完备的洁净实验室和一系列高端薄膜实验设备，用于研发和生产技术领先的半导体薄膜设备。公司产业化基地一期产能可实现年产100套，全部可达350套设备，可满足下游客户增产需求。
公司拥有全球供应商网络，在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾省等20多个地区的近40条生产线设有技术服务中心，可为客户提供全天候的技术服务。公司运营管理体系通过了ISO9001、ISO14001、ISO45001体系认证。
公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国乃至世界半导体产业的发展做出贡献。